超声波清洗技术的最新发展

超声波清洗技术的最新发展
1、高频超声清洗
对于象硅片表面小至零点几微米的超微污物粒子，常规的超声波清洗器无能为力，即使增加功率密度也无济于事。近年来发展了一种兆赫兹级的高频超声清洗技术，由于频率高，空化效应已不起作用，因此清洗的关键不是气泡，是高频压力波的擦洗作用，其对污物的去除率接近百分之百。高频清洗进来发展较快，主要用于超大规模集成电路芯片上的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特种污物的清洗。

2、聚焦式清洗
对于象纺织行业的喷丝板、过滤器之类微孔物件的清洗，常规的超声波清洗机清洗效果十分不理想，声强达不到要求，而采用机械扫描聚焦式超声清洗，喷丝板微孔中的污物脱离十分明显。聚焦式清洗要求达到高的声强，目前选用的频率以低频为主，常用 20kHz和15kHz两种频率，个别的频率也有28kHz的，其电功率在连续波情况下一般为500～700W，间隙脉冲工作状态下，功率可高一些。